Preparation and Voltammetric Characterization of Electrodes Coated with Langmuir-Schaefer Ultrathin Films of Nafion®

Filmes ultrafinos do polímero perfluorado Nafion foram depositados em eletrodos de óxido índio-titânio (ITO) usando a técnica de Langmuir-Scaefer (LS), depois da otimização das condições de composição da subfase. As características morfológicas das camadas foram obtidas por Microscopia de Força Atômica (AFM). Filmes de Nafion LS mostraram boa uniformidade e cobertura completa da superfície do eletrodo. No entanto, diferentes graus de organização das camadas poliméricas ficaram evidentes com respeito a filmes finos depositados por revestimento rotacional. Eletrodos ITO modificados com camadas de Nafion LS, pré-concentrados por cátions eletroativos de troca iônica, como o Ru[(NH 3 ) 6 ], dissolveram-se em soluções diluídas. A espécie eletroativa foi retida pelo ITO com camada de Nafion LS, mesmo depois da mudança do eletrodo modificado para eletrodo de suporte purificado. Isto possibilitou o uso do complexo de rutênio como padrão voltamétrico para o teste do fenômeno de difusão nos filmes de Nafion LS. Os coeficientes de difusão aparentes (D app ) do Ru[(NH 3 ) 6 ] incorporado no filme de Nafion LS foram obtidos por medidas voltamétricas. Os valores de D app diminuíram levemente com o aumento da quantidade de complexo de rutênio incorporado no filme ultrafino e foram significativamente mais baixos do que os valores para filmes de Nafion recapados, em acordo com a natureza altamente condensada dos filmes de Nafion LS.